Juliste Culture to Technology Identity on juliste, joka on suunniteltu esitettäväksi bussipysäkkien valolaatikoissa. Yläosassa Anhuita tarkoittava kiinalainen kirjoitusmerkki on kehystetty Huizhoun arkkitehtuurin klassisilla ääriviivoilla, jotka tuovat mieleen alueen historian ja kulttuurin. Merkki muuntuu vähitellen virtapiiriksi, joka päättyy neljään kiinalaiseen kirjoitusmerkkiin, jotka tarkoittavat Hefei High Techiä. Julisteen mitat ovat 60 x 90 senttimetriä. Liukuvärjätyt siniset sävyt on painettu spottiväripäällepainatuksella, ja virtapiirin linjat on päällystetty paikallisella UV-lakalla kohokuvioefektin aikaansaamiseksi.

Projektin nimi : Culture to Technology Identity, Suunnittelijoiden nimi : Lei Wang, Asiakkaan nimi : Hefei High Tech Digital Technology Co., LTD..

Lue viimeisimmät haastattelut ja keskustelut suunnittelusta, luovuudesta ja innovaatioista muotoilutoimittajan ja maailmankuulujen suunnittelijoiden, taiteilijoiden ja arkkitehtien välillä. Tutustu kuuluisien suunnittelijoiden, taiteilijoiden, arkkitehtien ja keksijöiden uusimpiin suunnitteluprojekteihin ja palkittuihin malleihin. Löydä uusia näkemyksiä luovuudesta, innovaatioista, taiteista, suunnittelusta ja arkkitehtuurista. Tutustu upeiden suunnittelijoiden suunnitteluprosesseihin.