Juliste Culture to Technology Identity on juliste, joka on suunniteltu esitettäväksi bussipysäkkien valolaatikoissa. Yläosassa Anhuita tarkoittava kiinalainen kirjoitusmerkki on kehystetty Huizhoun arkkitehtuurin klassisilla ääriviivoilla, jotka tuovat mieleen alueen historian ja kulttuurin. Merkki muuntuu vähitellen virtapiiriksi, joka päättyy neljään kiinalaiseen kirjoitusmerkkiin, jotka tarkoittavat Hefei High Techiä. Julisteen mitat ovat 60 x 90 senttimetriä. Liukuvärjätyt siniset sävyt on painettu spottiväripäällepainatuksella, ja virtapiirin linjat on päällystetty paikallisella UV-lakalla kohokuvioefektin aikaansaamiseksi.
Projektin nimi : Culture to Technology Identity, Suunnittelijoiden nimi : Lei Wang, Asiakkaan nimi : Hefei High Tech Digital Technology Co., LTD..
Tämä poikkeuksellinen muotoilu on voittanut platinapalkinnon grafiikan, kuvituksen ja visuaalisen viestinnän suunnittelukilpailussa. Varmasti kannattaa tutustua platinapalkittujen suunnittelijoiden portfolioon, josta löytyy monia muita uusia, innovatiivisia, alkuperäisiä ja luovia graafisen suunnittelun, kuvituksen ja visuaalisen viestinnän töitä.